[20a-S621-1~8] 3.15 シリコンフォトニクス

△ [20a-S621-7] ArF液浸露光技術を用いた高効率Si細線グレーティングカプラ

〇蘇武 洋平¹、鄭 錫煥¹、田中 有¹、森戸 健¹ (1.光電子融合基盤技術研究所)

キーワード：グレーティングカプラ、シリコンフォトニクス

シリコンフォトニクスを利用した集積光IO素子の送受信部における光ファイバとの結合手段としてグレーティングカプラ(GC)を検討した。送信部では、単一偏波GCに対してアポダイズ構造を適用することにより、波長1550nmにおいて結合損失-2.2dBを得た。受信部では、入力光ファイバが任意の偏波状態を有しても動作する偏波分離GCを適用し、その結合導波路及び散乱体形状を設計検討することで、結合損失-4.5dB、光クロストーク-14dBを実験的に確認した。