2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[20a-W321-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月20日(日) 09:00 〜 11:45 W321 (西2・3号館)

坂倉 政明(京大)

10:45 〜 11:00

[20a-W321-7] KrFエキシマレーザー照射によって形成されたSiC(0001)上グラフェンの成長過程の解明

〇(M2)服部 正和1、池上 浩1、中村 大輔1、岡田 龍雄1 (1.九州大学)

キーワード:グラフェン、SiC、レーザープロセッシング