[20p-H103-1~21] 6.2 Carbon-based thin films

△ [20p-H103-11] The film modification of Si-containing hydrogenated DLC films by the soft X-ray irradiation

〇(M1C)Shotaro Tanaka¹, Takayuki Hasagawa^1,2, Makoto Okada¹, Shinji Matsui¹, Kazuhiro Kanda¹ (1.LASTI, Univ. of Hyogo, 2.SALLC)

Keywords:Si-DLC,Soft X-ray,NEXAFS

Si含有水素化DLC膜は軟X線照射によって、何も添加していない水素化DLC膜に比べて水素脱離が大きく抑えられることが報告されている。しかし、体積は減少していくことが明らかとなった。したがって、Si含有水素化DLC膜は水素の脱離によらない膜の改質が起こっていると考えられる。そこで本研究ではSi含有水素化DLC膜特有の改質過程をNEXAFSなどの結果から議論する。