2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[20p-H121-1~24] 15.4 III-V族窒化物結晶

2016年3月20日(日) 13:15 〜 19:45 H121 (本館)

荒木 努(立命館大)、船戸 充(京大)、尾沼 猛儀(工学院大)

14:45 〜 15:00

[20p-H121-7] Growth and Characterizations of a pseudo-III-nitride ZnSnN2

〇(DC)Cao Xiang1、Umezome Koji1、Kawamura Fumio2、Ninomiya Yoshihiro1、Taniguchi Takashi2、Yamada Naoomi1 (1.Chubu Univ.、2.NIMS)

キーワード:ZnSnN2,pseudo-III-nitride,epitaxial film