2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

7 ビーム応用 » 7.5 イオンビーム一般

[20p-H137-1~15] 7.5 イオンビーム一般

2016年3月20日(日) 13:15 〜 17:15 H137 (本館)

種村 眞幸(名工大)、豊田 紀章(兵庫県立大)

13:30 〜 13:45

[20p-H137-2] 金属内包シリコンナノクラスター薄膜の創成とその化学的安定性

中嶋 敦1,2,3、渋田 昌弘2、中谷 真人1,3、太田 努1、角山 寛規1,3、江口 豊明1,3 (1.慶大理工、2.慶應義塾KiPAS、3.JST-ERATO)

キーワード:ナノクラスター、マグネトロンスパッタリング、超原子

開発した高出力インパルスマグネトロンスパッタリング (HiPIMS)法を用いて、金属原子とシリコン原子が混合したナノクラスターを生成させた。金属原子1個がシリコン原子16個で内包された金属内包シリコンナノクラスター超原子のみを、質量選別によって固体基板への非破壊蒸着し、その蒸着形態と化学的安定性を走査プローブ顕微鏡と光電子分光によって評価した。TaSi16が2成分超原子であることを明らかにした。