2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[20p-P13-1~14] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2016年3月20日(日) 16:00 〜 18:00 P13 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[20p-P13-1] イオンビームスパッタ蒸着法を用いた高品位Er2O3薄膜の作製

藤田 将弥1,2、朝岡 秀人2、山口 憲司2 (1.茨城大学、2.原子力機構)

キーワード:スパッタエッチング、イオン照射、薄膜