The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

Joint Session K » Joint Session K

[20p-S222-1~17] 21.1 Joint Session K

Sun. Mar 20, 2016 1:00 PM - 5:30 PM S222 (S2)

Naoki Ohashi(NIMS), Hisao Makino(Kochi Univ. of Tech.)

4:45 PM - 5:00 PM

[20p-S222-15] Dye-sensitized solar cell with a heat-resistance TNO transparent conductive film

Takeshi Endo1, Rieko Ono1, Ryo Iwaki1, Shuichiro Takemura1, 〇Masayuki Okuya1,2, Shoichiro Nakao3, Sohei Okazaki3, Enju Sakai3, Naoomi Yamada3, Taro Hitosugi4, Tetsuya Hasegawa5 (1.Grad.School Eng., Shizuoka Univ., 2.Res.Inst.Green Sci.Tech.,Shizuoka Univ., 3.KAST, 4.Tohoku Univ., 5.Tokyo Univ.)

Keywords:TNO,dye-sensitized solar cell,interface resistance

色素増感太陽電池(DSSC)において、透明導電膜にはFドープSnO2(FTO)を用いるのが一般的であるが、本研究ではNbドープTiO2(TNO)を導入する。本研究グループでは、これまでにTNO透明導電膜の導入により、従来の多孔質TiO2 / FTOヘテロ接合(FTOセル)に対し、多孔質TiO2 / TNO ホモ接合(TNOセル)による界面抵抗の低減と太陽電池特性の向上を報告した。この際、電極作製時の水素アニールによる還元防止のため、多孔質TiO2層へのアルミナ層のコーティングが不可欠であった。今回、大気下での耐熱性を有する新規TNO 膜を利用することでコーティングフリーのDSSCを作製し、従来のTNOセルと比較・検討を行った。