2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:45 S423 (南4号館)

東 清一郎(広島大)、原 明人(東北学院大)

16:00 〜 16:15

[20p-S423-10] 青色半導体レーザアニール中のポリイミド上Si膜の温度解析

〇岡田 竜弥1、志津 勇介1、野口 隆1 (1.琉大工)

キーワード：青色半導体レーザアニール