[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

▲ [20p-S423-12] Microwave Rapid Heating Used for Diffusing Impurities in Silicon

〇太田 康介¹、木村 駿介¹、蓮見 真彦¹、鮫島 俊之¹、鈴木 歩太²、牛島 満² (1.農工大、2.東京エレクトロン)

キーワード：semiconductor,doping