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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.15 シリコンフォトニクス

[20p-S621-1~13] 3.15 シリコンフォトニクス

2016年3月20日(日) 13:45 〜 17:30 S621 (南6号館)

小田克矢(日立研開)、羽鳥伸明(PETRA)、藤方潤一(PETRA)

14:15 〜 14:30

[20p-S621-3] 成長後アニールによる高濃度n型Geの発光増強

〇(M1)東垂水直樹¹、和田一実¹、石川靖彦¹ (1.東大工)

キーワード：シリコンフォトニクス、ゲルマニウム、フォトルミネセンス

　　　