2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[21a-H103-1~10] 6.4 薄膜新材料

2016年3月21日(月) 09:00 〜 11:45 H103 (本館)

鈴木 基史(京大)

09:30 〜 09:45

[21a-H103-3] スパッタ法により形成したAl2O3添加CeO2薄膜の電気特性評価

小西 順也1、大澤 隆志1、田中 章裕1、牧石 拓巳1、鈴木 摂2、石橋 啓次2、李 成奇2、高橋 健一郎2、山本 康博1 (1.法政大理工、2.㈱コメット)

キーワード:誘電体、高誘電率絶縁膜、二酸化セリウム