2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[21a-H103-1~10] 6.4 薄膜新材料

2016年3月21日(月) 09:00 〜 11:45 H103 (本館)

鈴木 基史(京大)

11:15 〜 11:30

[21a-H103-9] EuドープNiOエピタキシャル薄膜の室温作製と特性評価

高野 詩織1、福田 大二1、塩尻 大士1、秋山 賢輔1,2、金子 智1,2、松田 晃史1、吉本 護1 (1.東工大、2.神奈川県産技センター)

キーワード:酸化ニッケル、希土類元素、エピタキシャル