2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

合同セッションK » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

[21a-S222-1~12] 21.1 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス

2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 S222 (南2号館)

大島 孝仁(佐賀大)

11:30 〜 11:45

[21a-S222-10] MBE成長した単結晶WO3薄膜のエレクトロクロミック特性

〇(M1)村山 喬之1、桒形 航行1、原田 義之1、小池 一歩1、佐々 誠彦1、矢野 満明1、稲葉 克彦2、小林 信太郎2 (1.大阪工大ナノ材研センタ、2.リガクX線研)

キーワード:WO3、MBE、エレクトロクロミック

WO3は,古くから触媒やガスセンサの候補材料として研究されてきたワイドギャップ半導体である.前回我々は,MBE 法でr 面サファイア基板上にc 軸配向した単結晶WO3 薄膜をエピタキシャル成長したことについて報告した.今回,その薄膜を溶液ゲートタイプのデバイスへ加工して,エレクトロクロミック特性を調べた結果について報告する.