2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[21a-W321-1~12] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月21日(月) 09:00 〜 12:15 W321 (西2・3号館)

花田 修賢(弘前大)、玉木 隆幸(奈良高専)

10:45 〜 11:00

[21a-W321-7] 短パルスレーザー照射による水素吸蔵合金の表面改質効果

阿部 浩之1、下村 拓也2、菖蒲 敬久3、徳平 真之介4、宮下 敦巳1、西村 昭彦2、大道 博行2、内田 裕久4 (1.原子力機構量子高崎、2.原子力機構レーザー研、3.原子力機構量子播磨、4.東海大院応用理学)

キーワード:短パルスレーザー、水素吸蔵材料、表面改質