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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[21p-H103-1~21] 6.4 薄膜新材料

2016年3月21日(月) 13:15 〜 19:00 H103 (本館)

遠藤民生(岐阜大)、名村今日子(京大)、永田知子(日大)

18:30 〜 18:45

[21p-H103-20] CeO₂光学薄膜の成膜手法の検討 (Ⅱ)

〇成田彩希¹、室谷裕志¹、天野辰次²、岡茂樹² (1.東海大工、2.（株）ニデック)

キーワード：光学薄膜、酸化セリウム、成膜手法

　　　