The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

6 Thin Films and Surfaces » 6.3 Oxide electronics

[21p-H111-1~22] 6.3 Oxide electronics

Mon. Mar 21, 2016 1:00 PM - 6:45 PM H111 (H)

Hisashi Shima(AIST), Yasuhisa Naitoh(AIST)

2:45 PM - 3:00 PM

[21p-H111-8] Studies on improvement in Resistive RAM properties of BaTiO3 thin film with Layer-by-Layer annealing

Toshiyuki Sugie1, Hashimoto Shuhei1, Maejima Sou1, Ziyang Zhang1, Noda Minoru1, Yamashita kaoru1 (1.Kyoto Inst. Tech)

Keywords:BaTiO3,ReRAM,Layer by Layer

次世代不揮発性RAMの一種である抵抗変化型メモリ(ReRAM)の材料候補の一つに挙げられるBaTiO3薄膜をMOD法を用いて成膜し、その作製過程においてLayer-by-Layer表面焼成の最適化による抵抗変化型メモリの耐久性などの問題点について改善を図る研究を行った。