2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[21p-H112-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2016年3月21日(月) 13:15 〜 16:45 H112 (本館)

宮本 智之(東工大)

14:00 〜 14:15

[21p-H112-4] GaAsN薄膜のALE法によるSi供給順序がSi吸着サイトに与える影響

横山 祐貴1、堀切 将1、原口 智宏1、山内 俊浩1、鈴木 秀俊1、碇 哲雄1、福山 敦彦1 (1.宮崎大工)

キーワード:原子層エピタキシー、シリコンドープ