2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

[21p-H112-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶

2016年3月21日(月) 13:15 〜 16:45 H112 (本館)

宮本 智之(東工大)

15:00 〜 15:15

[21p-H112-7] MOVPE 成長GaAs/Ge/Si 構造のアニールによる結晶品質の向上

中尾 亮1,2、荒井 昌和1,2、山本 剛1、松尾 慎治1,2 (1.NTT先端集積デバイス研、2.ナノフォトニクスセンタ)

キーワード:結晶成長

近年,Si 基板上のGaAs 層成長に際し,GaAs と格子整合するGe バッファ層を用いた成長が提案されている。我々は、MOVPE 成長したGaAs/Ge/Si 構造に対し熱サイクルアニールを行うことにより,成長表面のピットの減少と発光強度の増大を確認した。