[21p-P15-1~23] 3.8 光計測技術・機器

[21p-P15-12] 可視光OCTとFDTDシミュレーションによる半導体光デバイス微細加工における新規非破壊膜厚測定法

〇西 剛史¹、尾崎 信彦¹、及川 陽一²、宮地 邦男²、大里 啓孝³、渡辺 英一郎³、池田 直樹³、杉本 喜正³ (1.和歌山大シス工、2.シンクランド、3.物質・材料研究機構)

キーワード：光干渉断層法、半導体微細加工、FDTDシミュレーション