2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

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[21p-P16-1~12] 3.15 シリコンフォトニクス

2016年3月21日(月) 16:00 〜 18:00 P16 (屋内運動場)

16:00 〜 18:00

[21p-P16-1] 最小限の膜厚ステップ領域を使用したAWGのロス低減構造

岡山 秀彰1,2、太縄 陽介1,2、八重樫 浩樹1,2、佐々木 浩紀1,2 (1.沖電気、2.PETRA)

キーワード:光導波路、シリコン、波長フィルタ

AWGにおいてスラブーアレイ導波路境界でのロスを低減する新たな構造に関して報告を行う。アレイ導波路にMMIを設け、この部分にのみ薄いスラブを有したリブ構造を配置する。