[21p-P3-1~21] 6.2 カーボン系薄膜

[21p-P3-8] マイクロ波プラズマCVD 法による多結晶ダイヤモンド成長におけるSi 基板上へのSi 薄膜の挿入

〇古畑 武夫¹、品川 友宏¹、山林 弘也¹、仲村 恵右¹、山田 英明²、山向 幹雄¹ (1.三菱電機、2.産総研)

キーワード：ダイヤモンド、プラズマCVD