[21p-S222-1~9] 金属酸化物薄膜の成膜装置

[21p-S222-5] 反応性プラズマ蒸着 (RPD)装置

〇木下 公男¹、前原 誠¹、酒見 俊之¹、北見 尚久¹ (1.住友重機械工業)

キーワード：反応性プラズマ蒸着、透明導電膜、太陽電池

反応性プラズマ蒸着法(Reactive Plasma Deposition :RPD)はアーク放電による高密度プラズマによって材料を昇華，かつイオン化することで反応性を高めた成膜方法である。その特徴として，昇華した材料のイオン化率が高いこと，基板への成膜粒子の平均エネルギーが10～30eVであることが挙げられる。材料連続供給機構を搭載することで，長時間の連続運転が可能であり，成膜室にプラズマガンとプラズマビームコントローラを並列に配置することで，大型基板にも均一な成膜が可能である。