[21p-S222-1~9] 金属酸化物薄膜の成膜装置

[21p-S222-7] ゾル・ゲル法による酸化物半導体混晶および積層構造の作製

〇安田 隆¹ (1.石専大理工)

キーワード：ゾル・ゲル法、酸化亜鉛、多層膜構造

ゾル・ゲルディップ法を用いたMgZnCdO薄膜の合成に関して以下の２点について報告します。
・ZnOのバンドギャップ制御
・ZnCdO/ZnO多層膜構造の作製