[22a-P4-1~27] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[22a-P4-12] 原子層堆積法による酸化ビスマスの成長

〇平林 三寛¹、田中 優¹、小松 周平¹ (1.上智大理工)

キーワード：薄膜、酸化ビスマス、原子層堆積法

酸化ビスマスの中で、Bi₂O₃は光学的、電気的、圧電的性質や酸化イオン伝導性から様々な技術に応用されている。本研究では膜厚や形態、化学組成の正確な制御に特に優れている原子層堆積法を用いて、酸化ビスマス薄膜を成長させ、作製した試料の評価を行った。