[22a-P5-1~18] 6.4 Thin films and New materials

[22a-P5-1] Growth of hcp-Ni thin films and its thermal anneal

〇Takumi Ikenoue¹, Masaki Ueno¹, Sachio Komori², Itsuhiro Kakeya², Masao Miyake¹, Tetsuji Hirato¹ (1.Kyoto Univ. Energy, 2.Kyoto Univ. Eng.)

Keywords:Mist CVD method,hcp-Ni

大気圧下のプロセスであるミストCVD法によって、安定な構造であるfcc-Niだけでなく準安定なhcp構造を有するNi薄膜を得られたので報告する。