[22a-P5-1~18] 6.4 薄膜新材料

[22a-P5-1] hcp構造を有するNi膜の成長と熱処理の影響

〇池之上 卓己¹、上野 仁希¹、小森 祥央²、掛谷 一弘²、三宅 正男¹、平藤 哲司¹ (1.京大院エネ科、2.京大院工)

キーワード：ミストCVD法、hcp-Ni

大気圧下のプロセスであるミストCVD法によって、安定な構造であるfcc-Niだけでなく準安定なhcp構造を有するNi薄膜を得られたので報告する。