PDF ダウンロード スケジュール 12 いいね! 0 コメント (0) 11:00 〜 11:15 [22a-W321-8] ガス加熱トライオードプラズマCVD法による低温成長a-Si:Hの高品質化 〇新倉 ちさと1、Sichanugrist Porponth2、宮島 晋介3、市川 幸美2、小長井 誠2,4 (1.物質・材料研究機構、2.科学技術振興機構、3.東工大院理工、4.都市大総研) キーワード:薄膜Si、薄膜成長プロセス、太陽電池