The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

[22a-W331-1~12] 16.1 Fundamental properties, evaluation, process and devices in disordered materials

Tue. Mar 22, 2016 9:00 AM - 12:15 PM W331 (W2・W3)

Nobuaki Terakado(Tohoku Univ.), Tsuyoshi Honma(Nagaoka Univ. of Tech.)

11:15 AM - 11:30 AM

[22a-W331-9] The phase change behaivior of Cr-Ge-Te compound thin film

Shogo Hatayama1, Satoshi Shindo1, Daisuke Ando1, Yuji Suto1, Junichi Koike1 (1.Tohoku Univ.)

Keywords:PCRAM,Cr-Ge-Te,Chalcogenide

相変化メモリ(PCRAM)の高温下での使用にはアモルファス相の高い熱的安定性が求められる。先行研究ではGeTeにCrを添加することでアモルファス相の熱的安定性が向上したが、同時に結晶化時に相分離が生じるということがわかった。そこで、本研究ではアモルファス相の熱的安定性が高く相分離しない材料としてCr-Ge-Te化合物であるCr2Ge2Te6(CGT)に注目し、相変化挙動を調査したところ、結晶相の抵抗がアモルファス相の抵抗を上回る材料であることがわかった。