2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

[22a-W331-1~12] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2016年3月22日(火) 09:00 〜 12:15 W331 (西2・3号館)

寺門 信明(東北大)、本間 剛(長岡技科大)

11:15 〜 11:30

[22a-W331-9] Cr-Ge-Te化合物薄膜の相変化挙動

畑山 祥吾1、進藤 怜史1、安藤 大輔1、須藤 祐司1、小池 淳一1 (1.東北大工)

キーワード:相変化メモリ、Cr-Ge-Te、カルコゲナイド

相変化メモリ(PCRAM)の高温下での使用にはアモルファス相の高い熱的安定性が求められる。先行研究ではGeTeにCrを添加することでアモルファス相の熱的安定性が向上したが、同時に結晶化時に相分離が生じるということがわかった。そこで、本研究ではアモルファス相の熱的安定性が高く相分離しない材料としてCr-Ge-Te化合物であるCr2Ge2Te6(CGT)に注目し、相変化挙動を調査したところ、結晶相の抵抗がアモルファス相の抵抗を上回る材料であることがわかった。