2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[22a-W541-1~10] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年3月22日(火) 09:00 〜 11:45 W541 (西5号館)

中村 成志(首都大)

10:30 〜 10:45

[22a-W541-6] 高温アニールプロセスがGaN MOSFET特性に与える影響

西口 賢弥1、橋詰 保1 (1.北海道大学量子集積エレクトロニクス研究センター)

キーワード:GaN、MOS、アニール