[22a-W611-1~14] 8.3 Deposition of thin film and surface treatment

[22a-W611-8] Photoresist removal using atmospheric pressure low-temperature plasma

Tomoki Takai¹, 〇Masashi Yamamoto¹, Tomokazu Shikama¹, Shiro Nagaoka¹, Takashi Nishiyama², Hideo Horibe² (1.NIT, Kagawa College, 2.Osaka City Univ.)

Keywords:photoresist removal,atmospheric pressure low-temperature plasma,environmentally friendly

レジストの除去には一般に有害な薬品が用いられており、環境負荷や基板洗浄・浄化設備が必要などの問題がある。そこで、酸素プラズマによる除去が行われているが、これは真空容器内で処理するものである。基板の大型化に対応するためには容器の大型化が必須であり、装置の大型化やランニングコストの増加を招く。我々は装置構成が簡便で大面積化が容易な大気圧低温プラズマを用いたレジストの除去について検討した。