The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

Presentation information

Oral presentation

3 Optics and Photonics » 3.11 Photonic structures and phenomena

[22p-S621-1~5] 3.11 Photonic structures and phenomena

Tue. Mar 22, 2016 1:15 PM - 2:30 PM S621 (S6)

Akihiko Shinya(NTT)

1:45 PM - 2:00 PM

[22p-S621-3] Silicon photonic crystal nanocavity with a Q factor more than a million fabricated by photo-lithography

Kohei Ashida1, Makoto Okano2, Minoru Ohtsuka2, Miyoshi Seki2, Nobuyuki Yokoyama2, Keiji Koshino2, Masahiko Mori2, Yasushi Takahashi1 (1.Osaka Prefecture Univ., 2.AIST)

Keywords:photo-lithography,silicon photonic crystal

これまで,Q値100万以上のシリコンナノ共振器は電子線描画法によって作製されていた.
今回我々は,フォトリソグラフィ法を用いてシフトL3ナノ共振器,マルチヘテロ構造ナノ共振器を作製し,その特性を評価した.
その結果,マルチヘテロ構造ナノ共振器においてQ値150万を達成したので報告する.