The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

13 Semiconductors » 13.8 Compound and power electron devices and process technology

[22p-W541-1~8] 13.8 Compound and power electron devices and process technology

Tue. Mar 22, 2016 1:00 PM - 3:00 PM W541 (W5)

Naoteru Shigekawa(Osaka City Univ.)

1:00 PM - 1:15 PM

[22p-W541-1] Electrical characteristics of pin-diode fabricated by atomic diffusion bonding

yuki yamada1, miyuki uomoto2, takehito shimatsu2, masahiro nada1, hideaki matsuzaki1 (1.NTT Device Tech. Labs., 2.Tohoku Univ.)

Keywords:wafer bonding,diode,electrical characteristics

半導体ウエハ接合技術は、格子定数にとらわれない材料選択が可能な為、半導体デバイスを作製する上でその設計自由度を高めることが出来る有望な技術である。原子拡散接合は金属薄膜表面の原子拡散を利用することで、常温常圧でのウエハ接合を可能にする手法であり、接合界面の半導体結晶品質の劣化を抑制した接合が期待できる。本研究では、原子拡散法によりPINダイオードを作製し、その電気特性を評価したので報告する。