Taojun Fang

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発表者・著者、共著者

2017年9月8日(金) 09:30 〜 11:30 PB5 (国際センター2F)

一般セッション(ポスター講演)
| 8 プラズマエレクトロニクス
| 8.8 Plasma Electronics English Session

[8a-PB5-1~3] 8.8 Plasma Electronics English Session

09:30 〜 11:30

▼ [8a-PB5-3] Effects of gas pressure on the surface morphology of a-C:H films
deposited using Ar + H₂+ C₇H₈ plasma CVD

〇Taojun Fang¹、Kenji Yamaki¹、Kazunori Koga¹、Daisuke Yamashita¹、Hyunwoong Seo¹、Naho Itagaki¹、Masaharu Shiratani¹ (1.Kyushu University)