16:00 〜 18:00 [5p-PB8-6] 溶液成長SiC基板上に作製した酸化膜の評価 〇古庄 智明1、川畑 直之1、古橋 壮之1、渡辺 友勝1、渡邊 寛1、山川 聡1、村山 健太2、原田 俊太2、宇治原 徹2 (1.三菱電機 先端総研、2.名大 未来研)