17:00 〜 17:15 [5p-S42-13] ナノインプリントリソグラフィにおけるレジスト残膜の影響 〇岡部 かすみ1、小林 敬1、光安 将騎1、福原 和也1、加藤 寛和1、河野 拓也1、Jung Wooyung2 (1.東芝メモリ、2.SKハイニクス)