川村浩晃

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発表者・著者、共著者

2017年9月6日(水) 09:00 〜 12:15 A201 (201)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.6 IV族系化合物（SiC）

[6a-A201-1~12] 15.6 IV族系化合物（SiC）

09:15 〜 09:30

[6a-A201-2] TEOS-CVD-SiO₂膜の熱処理に伴う界面酸化膜の評価

〇川村浩晃¹、蓮沼隆¹、山部紀久夫¹ (1.筑波大学)