Shiyu Xiao

発表者・著者、共著者

2017年9月7日(木) 13:15 〜 18:45 A301 (メインホール)

一般セッション(口頭講演)
| 15 結晶工学
| 15.4 III-V族窒化物結晶

[7p-A301-1~20] 15.4 III-V族窒化物結晶

14:30 〜 14:45

▲ [7p-A301-6] Investigation of high-temperature annealing process of sputtered AlN films

〇Shiyu Xiao¹、Yikang Liu²、Ryoya Suzuki²、Hideto Miyake^1,2、Kazumasa Hiramatsu²、Shunta Harada³、Toru Ujihara³ (1.Mie Univ. Grad. Scl. of RIS、2.Mie Univ. Grad. Scl . of Eng、3.Nagoya Univ.)

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