17:00 〜 17:15
〇桝谷 聡士1、輿 公祥2、飯塚 和幸2、倉又 朗人2、上田 修3、嘉数 誠1 (1.佐賀大院工、2.ノベルクリスタル、3.金沢工大)
桝谷 聡士
発表者・著者、共著者
2017年9月7日(木) 13:45 〜 18:00 C17 (研修室2)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 21 合同セッションＫ「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
- | 21.1 合同セッションＫ 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2017年9月7日(木) 13:45 〜 18:00 C17 (研修室2)
17:00 〜 17:15
〇桝谷 聡士1、輿 公祥2、飯塚 和幸2、倉又 朗人2、上田 修3、嘉数 誠1 (1.佐賀大院工、2.ノベルクリスタル、3.金沢工大)