脇山祐一朗

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発表者・著者、共著者

2017年9月7日(木) 13:15 〜 17:30 S45 (第6会議室)

一般セッション(口頭講演)
| 3 光・フォトニクス
| 3.7 レーザープロセシング

[7p-S45-1~14] 3.7 レーザープロセシング

14:00 〜 14:15

△ [7p-S45-3] 大気中レーザーアブレーションによるHoドープZnOマイクロスフィアの作製

〇脇山祐一朗¹、田崎涼平¹、東畠三洋¹、諏訪輝²、池上浩^1,2、N.J. Vasa³、M.S.R. Rao³、中村大輔¹ (1.九大シス情、2.九大ギガフォトンNextGLP、3.インド工科大学マドラス校)