13:30 〜 15:30 [8p-PA2-6] 位置選択的ウェットエッチングによる多段SOI基板の作製-インクジェットマスクパターンの導入- 〇(M2)桑原 充輝1、田中 捺美1、高橋 和1 (1.大阪府大院工)