一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス
13:15 〜 13:30
〇鶴岡 徹1、クリシュナン カーティック1、ムルガナタン マノハラン2、水田 博2、青野 正和1 (1.物材機構、2.北陸先端大)
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13:30 〜 13:45
〇(M1)鈴木 彩菜1、鶴岡 徹2、長谷川 剛1 (1.早稲田先進理工、2.物材機構)
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13:45 〜 14:00
〇(M1)葛西 亜衣1、鶴岡 徹2、長谷川 剛1 (1.早大先進理工、2.物材機構)
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14:00 〜 14:15
〇田中 努1、バロブ イリア2、長谷川 剛1 (1.早大先進理工、2.アーヘン工科大学)
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14:15 〜 14:30
〇酒井 慎弥1、武藤 恵1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 庸夫1 (1.北大院情報)
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14:30 〜 14:45
〇西 佑介1、木本 恒暢1 (1.京大院工)
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14:45 〜 15:00
〇(M1)肥田 聡太1、山崎 隆浩2、大野 隆央2、清水 敦史3、岸田 悟1,4、木下 健太郎3 (1.鳥取大工、2.物材機構、3.東京理科大、4.TiFREC)
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15:00 〜 15:15
〇松井 亮祐1、栗山 豊1、西 佑介1、木本 恒暢1 (1.京大院工)
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15:15 〜 15:30
〇山口 賢吾1、村上 弘弥1、清水 拓磨1、竹内 正太郎1、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工学研究科)
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15:45 〜 16:00
〇(M2)川北 純平1,2、島 久2,3、内藤 泰久2,3、秋永 広幸2,3、谷内 敏之1,2、辛 埴1,2 (1.東大物性研、2.産総研・東大 オペランド計測 OIL、3.産総研ナノエレ)
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16:00 〜 16:15
〇(M2)清水 拓磨1、竹内 正太郎1、藤平 哲也1、酒井 朗1 (1.阪大院基礎工)
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16:15 〜 16:30
〇(M1)東 篤志1、中島 諒1、吉田 勇人1、清水 智弘1、伊藤 健1、新宮原 正三1 (1.関西大学システム理工)
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16:30 〜 16:45
島 久1、〇内藤 泰久1、魏 志強2、本間 運也2、藤井 覚2、角谷 徹1、秋永 広幸1 (1.産総研ナノエレ、2.パナソニックセミコンダクターソリューションズ)
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16:45 〜 17:00
〇中川 良祐1、福地 厚1、有田 正志1、高橋 庸夫1 (1.北大院情報)
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17:00 〜 17:15
〇萩原 祐仁1、木下 健太郎2、田中 博美3、岸田 悟1,4 (1.鳥取大工、2.東京理科大、3.米子高専、4.TiFREC)
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17:15 〜 17:30
〇河内 剛史1、加納 伸也1、藤井 稔1 (1.神戸大院工)
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17:30 〜 17:45
〇(M1)寺田 吏1、石部 貴史1、渡辺 健太郎1,2、中村 芳明1,2 (1.大阪大学、2.CREST-JST)
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17:45 〜 18:00
〇疋田 亘1、浅井 哲也2、桑原 裕司1、赤井 恵1,3 (1.阪大院工、2.北大院情報、3.JST さきがけ)
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