一般セッション(口頭講演)
3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング
2017年9月7日(木) 13:15 〜 17:30 S45 (第6会議室)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:15 〜 13:45
〇吉川 洋史1 (1.埼玉大院理工)
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13:45 〜 14:00
〇(M2)青柳 弓槻1、谷 峻太郎1、小林 洋平1 (1.東大物性研)
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14:00 〜 14:15
〇脇山 祐一朗1、田崎 涼平1、東畠 三洋1、諏訪 輝2、池上 浩1,2、N.J. Vasa3、M.S.R. Rao3、中村 大輔1 (1.九大 シス情、2.九大 ギガフォトンNextGLP、3.インド工科大学マドラス校)
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14:15 〜 14:30
〇(M1)阿部 将士1、Serien Daniela2、Terakawa Mitsuhiro1,3、Kawano Hiroyuki4、Miyawaki Atsushi4、Midorikawa Katsumi2、Sugioka Koji2 (1.Keio Univ., School of Integrated Design Engineering、2.RIKEN Center for Advanced Photonics、3.Keio Univ., Department of Electronics and Engineering、4.RIKEN Brain Science Institute)
スケジュール
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14:45 〜 15:00
〇津山 美穂1、榎原 直哉1、山下 数馬1、部谷 学2、中野 人志1 (1.近大理工、2.大産大工)
スケジュール
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15:00 〜 15:15
〇馬場 夏樹1、青野 祐子1、平田 敦1 (1.東工大)
スケジュール
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15:15 〜 15:30
〇松坂 修吾1、小澤 祐市1、佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
スケジュール
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15:30 〜 15:45
〇(DC)鳥山 誠也1、ミゼイキス ビガンタス1、小野 篤史1 (1.静大院工)
スケジュール
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15:45 〜 16:00
〇(M2)近藤 幸成1、溝尻 瑞枝1、櫻井 淳平1、秦 誠一1 (1.名大工)
スケジュール
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16:15 〜 16:30
〇(D)白石 正彦1、西山 道子1、渡辺 一弘1、窪寺 昌一1 (1.創価大院工)
スケジュール
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16:30 〜 16:45
〇(M2)芦田 紘平1、挾間 優治2,3、秋山 英文2,3、高橋 和1 (1.大阪府大院工、2.東京大学物性研、3.産総研 OPERANDO-OIL)
スケジュール
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16:45 〜 17:00
〇二村 大1、川上 博貴1、植木 智之1、富田 卓朗1、岡田 達也1、田中 康弘2 (1.徳島大工、2.香川大工)
スケジュール
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17:00 〜 17:15
〇(M2)二階堂 誓哉1、宮地 悟代1 (1.農工大工)
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17:15 〜 17:30
〇中西 佑太1、下間 靖彦1、坂倉 政明2、三浦 清貴1 (1.京大院工、2.次世代レーザープロセッシング技術研究組合)
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