一般セッション(口頭講演)
[7a-S45-1~8] 3.7 レーザープロセシング
2017年9月7日(木) 09:00 〜 11:15 S45 (第6会議室)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇佐藤 正健1、 川口 喜三1、 秋山 陽久1、 大村 英樹1 (1.産総研)
09:15 〜 09:30
〇岩田 博之1、 坂 公恭1、 河口 大祐2 (1.愛知工業大、2.浜松ホトニクス)
09:30 〜 09:45
〇弘中 陽一郎1、 三浦 永祐3、 黒田 隆之助3、 宮西 宏併1、 重森 啓介1、 松岡 健之2、 尾崎 典雅2、 兒玉 了祐1、 栗田 隆史4、 栗田 典夫4、 渡利 威士4、 水田 好雄4、 壁谷 悠希4 (1.阪大レーザー研、2.阪大工学部、3.産総研、4.浜松ホトニクス)
09:45 〜 10:00
〇奈良崎 愛子1、 佐藤 正健1 (1.産総研)
10:15 〜 10:30
西川 隼人1、 〇中嶋 隆1 (1.京大エネ研)
10:30 〜 10:45
〇野尻 秀智1,2、 大越 昌幸1 (1.防衛大、2.レニアス)
10:45 〜 11:00
〇山崎 佑起1、 佐藤 俊一1 (1.東北大多元研)
11:00 〜 11:15
王 浩浩1、 小田原 修1、 〇和田 裕之1 (1.東工大物質理工)