[5a-S44-1~11] 【CS.9】7.1 X線技術と7.4 量子ビーム界面構造計測のコードシェアセッション

[5a-S44-7] フェムト秒極端紫外レーザー光照射によるEUV多層膜のアブレーション

〇市丸 智¹、錦野 将元²、石野 雅彦²、木下 博雄³、犬伏 雄一⁴、東口 武史⁵、鷲尾 方一⁶、坂上 和之⁷、大和田 成起⁸、羽多野 忠⁹、畑山 雅俊¹、大知 渉之¹、Dinh-Thanh Hung²、今 亮⁴、原 広行⁵、山内 駿⁵、小倉 拓人⁵、篠崎 夏美⁵、小柴 裕⁵、高橋 孝⁶、西留 武宏⁶、奥 哲¹ (1.NTT-AT、2.量研関西研、3.兵庫県立大、4.JASRI、5.宇大院工、6.早大理工研、7.早大高等研、8.RIKEN、9.東北大多元研)

キーワード：EUV多層膜、アブレーション、耐久性