2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[5p-A202-1~18] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2017年9月5日(火) 13:15 〜 18:00 A202 (202)

島 久(産総研)、西 佑介(京大)

16:15 〜 16:30

[5p-A202-12] 抵抗変化メモリ特性のHf酸化物スパッタ条件依存性

〇(M1)東 篤志1、中島 諒1、吉田 勇人1、清水 智弘1、伊藤 健1、新宮原 正三1 (1.関西大学システム理工)

キーワード:抵抗変化メモリ