2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[5p-A202-1~18] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2017年9月5日(火) 13:15 〜 18:00 A202 (202)

島 久(産総研)、西 佑介(京大)

14:45 〜 15:00

[5p-A202-7] 溶媒供給効果による抵抗変化メモリの動作機構解明

〇(M1)肥田 聡太1、山崎 隆浩2、大野 隆央2、清水 敦史3、岸田 悟1,4、木下 健太郎3 (1.鳥取大工、2.物材機構、3.東京理科大、4.TiFREC)

キーワード:抵抗変化メモリ、粒界、NiO