[5p-C11-1~10] 13.3 絶縁膜技術

[5p-C11-10] Amorphous-SiO₂中の金属原子が示す化学的傾向

〇宮島 岳史¹、白川 裕規¹、洗平 昌晃^2,1、白石 賢二^2,1 (1.名大院工、2.名大未来研)

キーワード：絶縁体、二酸化ケイ素、第一原理計算