[5p-C13-1~15] 12.3 機能材料・萌芽的デバイス

△ [5p-C13-7] 加湿アニール法を用いた非晶性高分子ブロックからなる両親媒性高分子によるナノ相分離構造薄膜の作製

〇松永 康平¹、松井 淳²、山本 俊介³、三ツ石 方也³、永野 修作⁴ (1.山形大院理工、2.山大理、3.東北大多元研、4.名大VBL)

キーワード：自己組織化、加湿アニール

ポリ（N-ドデシルアクリルアミド）（pDDA）を加湿アニールすることでラメラ構造化することを利用し、特異的な周期構造を有するブロックコポリマーの構築手法の確立を目指した。pDDAとPEGからなるブロックコポリマー薄膜は加湿アニールによって、面内方向にヘキサゴナルパターンが確認された。この配向は基板の影響を受けないことからpDDAの加湿アニールによるラメラ構造化がナノ相分離を誘起したと考えられる。