2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[5p-C21-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2017年9月5日(火) 13:45 〜 17:15 C21 (C21)

満原 学(NTT)、赤羽 浩一(NICT)

14:15 〜 14:30

[5p-C21-3] 2温度成長法で作製したGaAsBi/GaAs多重量子井戸LEDの温度特性

樋口 憧生1、佐々木 大志1、塚本 晟1、伊藤 瑛悟1、山田 光起1、パティル パラビ1、石川 史太郎1、下村 哲1 (1.愛媛大院理工)

キーワード:GaAsBi、LED、温度特性

2温度成長法で作製したGaAsBi/GaAs多重量子井戸(MQW)を活性層に持つLEDの温度特性を測定した。EL ピークは260 Kで1200 nm, 170 Kで1177 nmに観測された。温度を下げるにしたがい, ピーク発光波長は徐々に短波長側に移動し, その温度係数は0.26 nm/Kであった. また, 発光スペクトルの半値幅は約100 nmで、ほとんど温度に依存しないことが明らかになった。